| 段连运,徐献平,吴念祖,谢有畅,邓存.TiO_2在γ-Al_2O_3的单层分散态[J].分子催化,1992,(5): |
| TiO_2在γ-Al_2O_3的单层分散态 |
|
| |
| DOI： |
| 中文关键词: TiO_2/γ-Al_2O_3复合载体,气相吸附法,单层分散激光喇曼光谱,X光光电子能谱 |
| 英文关键词: |
| 基金项目: |
| 段连运 徐献平 吴念祖 谢有畅 邓存 |
| 北京大学物理化学研究所，北京大学物理化学研究所，北京大学物理化学研究所，北京大学物理化学研究所，福建宁德师专 北京 100871，北京 100871，北京 100871，北京 100871 |
| 摘要点击次数: 828 |
| 全文下载次数: 20 |
| 中文摘要: |
| 近年来文献报道,用TiO_2(锐钛矿)改性的γ-Al_2O_3,作为钼系加氢脱硫或脱氮催化剂的载体,可明显改善催化剂的性能。因此,TiO_2在γ-Al_2O_3表面上的存在状态和性质已成为重要的研究课题。我们曾对用气相吸附法制备的TiO_2/γ-Al_2O_3复合载体中的TiO_2在γ-Al_2O_3表面上的存在状态作了初步研究,发现TiO_2在γ-Al_2O_3(Sg=211.6m~2、g)表面上有一分散阈值 |
| 英文摘要: |
| |
| HTML 查看全文 查看/发表评论 下载PDF阅读器 |
|
|
|
