王大庆,张文,陶学明,杨铁伟,蔡天锡.Al_2(SO_4)_3/γ-Al_2O_3单层分散状态及其对丁烯齐聚反应活性的[J].分子催化,1994,(6): |
Al_2(SO_4)_3/γ-Al_2O_3单层分散状态及其对丁烯齐聚反应活性的 |
|
|
DOI: |
中文关键词: 阈值,单层分散,齐聚,XRD相定量,TG,TG氨吸附。 |
英文关键词:Threshold,Monolayer dispersion,Oligomerization,XRD phase quantitatiue determination,TG,TG-adsorption of NH_3., |
基金项目:北京大学分子动态及稳态实验室资助 |
王大庆 张文 陶学明 杨铁伟 蔡天锡 |
大连理工大学 |
摘要点击次数: 784 |
全文下载次数: 21 |
中文摘要: |
用XRD、TG、热重氨吸附法等手段,测定了Al_2(SO_4)_3/γ-Al_2O_3中单层分散相与Al_2(SO_4)_3担载量之间的关系,测定了表面单层最大分散量一阈值。其与用密置单层模型计算所得值接近,这为Al_2(SO_4)_3在γ-Al_2O_3上单层分散行为提供了证据,且将该催化剂的表面行为与其对丁烯齐聚反应活性进行了关联。 |
英文摘要: |
|
HTML 查看全文 查看/发表评论 下载PDF阅读器 |
|
|
|